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华为
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华为
2026-09-09 10:46
科技

华为锻链:一家手机公司如何重铸中国光刻机山河

从光源到物镜,哈勃投资的隐秘版图与“韬定律”的时间战争。
■

公元二零二六年九月九日,中国半导体业已非吴下阿蒙。

若将时光倒拨五载,彼时业界尚在焦虑“卡脖子”三字。光刻机者,芯片制造之“皇冠”,十万零件集成之怪兽,长期以来为荷兰阿斯麦所把持。然则今日局面,悄然生变。这场变局的推手,并非传统的设备豪门,而是昔日的手机制造商——华为。



华为旗下哈勃投资,近年来的动作堪称一部“零部件攻城略地史”。这家投资平台不追求控股,却以“项目管理”式的精准注资,将散落于中国各地的光刻机元组件高手一一串联。公元二零二一年六月,哈勃出资九百六十万元入股科益虹源,持股百分之四点七六。此公司何许人也?乃中科院微电子所控股之DUV光刻光源系统供应商。光刻机之“光”,恰如人之双目,光源若废,则万物皆盲。华为这一投,等于在光刻机的“瞳孔”里楔入了自己的印记。

此后数年,哈勃之手伸向更深处。物镜系统有国望光学、曝光系统有国科精密、双工作台有华卓精科、浸没系统有启尔机电。光刻胶领域,哈勃入股徐州博康;半导体设备方面,特思迪、芯曌科技相继被纳入版图。若将一台DUV光刻机拆解为十数个子系统,华为几乎在每个关键节点都布下了棋子。这套打法,颇似战国时秦人“远交近攻”之策——不求一家独吞,但求步步为营。

技术路线上,华为更是走出了一条“不依赖EUV”的蹊径。公元二零二六年五月二十五日,华为董事何庭波于IEEE国际电路系统研讨会正式发表“韬(τ)定律”。此定律一反摩尔定律“几何缩微”之旧途,提出“时间缩微”新说——不执着于把晶体管做小,而是致力于让信号跑得更快。其核心招式名曰“逻辑折叠”,将原本摊在二维平面上的电路“对折”为双层,信号传输路径大幅缩短。何庭波披露,过去六年基于此路径已量产三百八十一款芯片;今年秋季之麒麟芯片,将首度商用此术。华为预计,至公元二零三一年,高端芯片晶体管密度可达一点四纳米制程之同等水平。



这并非痴人说梦。公元二零二六年三月,上海SEMICON China展会之上,上海微电子公开展示了百分百自研之光刻技术,且已进入量产阶段。与华为关系密切的深圳新凯来,亦携十六款以名山命名的设备亮相,从“武夷山”刻蚀机到“长白山”薄膜沉积,俨然一支国产设备军团。更有高盛报告预测,中国大陆七纳米及以下先进制程晶圆自给率,将从二零二五年的百分之八飙升至二零三五年之百分之六十六。

兰德公司今年七月之报告虽审慎,称中国二零二六年量产DUV光刻机之概率不过三成七,然其亦承认:政策支持、资金充沛、人才回流,三股合力不可小觑。华为副董事长徐直军直言,华为所有产品皆可基于国产设计、制造并规模供应——此言或有过誉,然其志不在小。

昔人云:“不积跬步,无以至千里。”华为之“锻链”,正是将光刻机这头巨兽拆解为千百跬步,再一一踏过。从光源到物镜,从光刻胶到双工作台,这家昔日的手机公司正以投资为针、以技术为线,缝补着中国半导体产业链上每一处破洞。道阻且长,然行则将至。

■
撰文 / OR
题图来源:Getty Images

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从光源到物镜,哈勃投资的隐秘版图与“韬定律”的时间战争。
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公元二零二六年九月九日,中国半导体业已非吴下阿蒙。

若将时光倒拨五载,彼时业界尚在焦虑“卡脖子”三字。光刻机者,芯片制造之“皇冠”,十万零件集成之怪兽,长期以来为荷兰阿斯麦所把持。然则今日局面,悄然生变。这场变局的推手,并非传统的设备豪门,而是昔日的手机制造商——华为。



华为旗下哈勃投资,近年来的动作堪称一部“零部件攻城略地史”。这家投资平台不追求控股,却以“项目管理”式的精准注资,将散落于中国各地的光刻机元组件高手一一串联。公元二零二一年六月,哈勃出资九百六十万元入股科益虹源,持股百分之四点七六。此公司何许人也?乃中科院微电子所控股之DUV光刻光源系统供应商。光刻机之“光”,恰如人之双目,光源若废,则万物皆盲。华为这一投,等于在光刻机的“瞳孔”里楔入了自己的印记。

此后数年,哈勃之手伸向更深处。物镜系统有国望光学、曝光系统有国科精密、双工作台有华卓精科、浸没系统有启尔机电。光刻胶领域,哈勃入股徐州博康;半导体设备方面,特思迪、芯曌科技相继被纳入版图。若将一台DUV光刻机拆解为十数个子系统,华为几乎在每个关键节点都布下了棋子。这套打法,颇似战国时秦人“远交近攻”之策——不求一家独吞,但求步步为营。

技术路线上,华为更是走出了一条“不依赖EUV”的蹊径。公元二零二六年五月二十五日,华为董事何庭波于IEEE国际电路系统研讨会正式发表“韬(τ)定律”。此定律一反摩尔定律“几何缩微”之旧途,提出“时间缩微”新说——不执着于把晶体管做小,而是致力于让信号跑得更快。其核心招式名曰“逻辑折叠”,将原本摊在二维平面上的电路“对折”为双层,信号传输路径大幅缩短。何庭波披露,过去六年基于此路径已量产三百八十一款芯片;今年秋季之麒麟芯片,将首度商用此术。华为预计,至公元二零三一年,高端芯片晶体管密度可达一点四纳米制程之同等水平。



这并非痴人说梦。公元二零二六年三月,上海SEMICON China展会之上,上海微电子公开展示了百分百自研之光刻技术,且已进入量产阶段。与华为关系密切的深圳新凯来,亦携十六款以名山命名的设备亮相,从“武夷山”刻蚀机到“长白山”薄膜沉积,俨然一支国产设备军团。更有高盛报告预测,中国大陆七纳米及以下先进制程晶圆自给率,将从二零二五年的百分之八飙升至二零三五年之百分之六十六。

兰德公司今年七月之报告虽审慎,称中国二零二六年量产DUV光刻机之概率不过三成七,然其亦承认:政策支持、资金充沛、人才回流,三股合力不可小觑。华为副董事长徐直军直言,华为所有产品皆可基于国产设计、制造并规模供应——此言或有过誉,然其志不在小。

昔人云:“不积跬步,无以至千里。”华为之“锻链”,正是将光刻机这头巨兽拆解为千百跬步,再一一踏过。从光源到物镜,从光刻胶到双工作台,这家昔日的手机公司正以投资为针、以技术为线,缝补着中国半导体产业链上每一处破洞。道阻且长,然行则将至。

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